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Tetrafluoruro de silicio



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El tetrafluoruro de silicio o tetrafluorosilano es un compuesto químico de fórmula SiF4. Esta molécula tetraédrica destaca por tener un rango muy estrecho de estado líquido (su punto de ebullición es de sólo 4 ° C superior a su punto de fusión). Fue sintetizado por primera vez por John Davy en 1812.[2]

El SiF4 es un subproducto de la producción de fertilizantes de fosfato, lo que resulta del ataque de HF (derivado de la protonólisis defluorapatita) a silicatos. En el laboratorio, el compuesto se prepara calentado BaSiF6 por encima de 300 ° C, después de lo cual se recogen los productos volátiles SiF4, dejando un residuo de BaF2. El BaSiF6 se prepara tratando una solución acuosa de ácido hexafluorosilícico con cloruro de bario.[3]​ El correspondiente GeF4 se preparó de manera análoga, excepto que requiere "cracking" térmico a 700 ° C.[4]

Este compuesto volátil encuentra un uso limitado en la microelectrónica y la síntesis orgánica.[5]

Los penachos volcánicos contienen cantidades significativas de tetrafluoruro de silicio, la producción puede alcanzar varias toneladas por día.[6]​ El tetrafluoruro de silicio está parcialmente hidrolizado y forma ácido hexafluorosilícico.



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